- Áreas de investigación
-
- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Muestreo, Preparación, Tratamiento y Conservación de Muestras
- Fabricación y Tratamiento
- Subagrupación
-
- Deposición
- Micro y Nanofabricación
Deposición física desde fase vapor: ALD
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: PLATAFORMA NANOQUIM
- Instituto: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE BARCELONA
- Localidad: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Web del servicio: http://www.icmab.csic.es
Cinco laboratorios de Sala Blanca clase 10.000 (ISO7): Lab. de litografía óptica Avanzada, Lab. de Caracterización de materiales funcionales en la nanoescala, Lab. de caracterización físico-química y Nanofabricacion, Lab. de síntesis Química y Laboratorio de alto control de humedad, para la deposisión de soluciones no-acuosas y el crecimiento de nanoestructuras; El laboratorio Nanoquim esta dedicado a la nanoestrucutración de materiales obtenido por procedimientos químicos, lo que contituye la caracterítica más distitiva de la Plataforma Nanoquim. Hay instalados unos 30 equipos científicos diferentes en la instalación, destinados al control de las propiedades físico-químicas de soluciones, equipamiento para la deposición y la nanoestrucutración, crecimiento de Nano-materiales, caracterización de películas delgadas, caracterización en la nanoescala, grabado selectivo físico-químicos para metales, óxidos y polímeros y equipamiento para contactos electrícos y litografía.
Deposición física desde fase vapor: ALD
Descripción de la prestación
ALD ofrece el control exacto de deposiciones a escala atómica. ALD es una tecnica reconocida para su calidad de película. El principio de ALD está basado en la emisión de pulsos secuenciales de vapores de precursores especiales, cada uno forma aproximadamente una capa atómica cada pulso. El sistema Cambridge NanoTech, como el Savannah, está diseñado para depositar capas sin pinhole que son perfectamente uniformes en el grosor, hasta dentro de poros, trincheras y cavidades. Alta capacidad de depositar sobre substrato con alta relación de aspecto. Si se rrequiere tener una película más gruesa se puede repetir el ciclo varias veces.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Deposición Fisica desde Fase Vapor_ALD_Soporte Tecnico | € / hora | 64.99 € | 80.85 € |
| Deposición Física desde Fase Vapor ALD con precursor | euro / hora | 74.4 € | 89.89 € |
| Deposición Fisica desde Fase Vapor_ALD con precursor_Soporte | € / hora | 74.4 € | 89.89 € |
| Deposición Física desde Fase Vapor ALD | € / hora | 64.99 € | 80.85 € |
Otras prestaciones de servicio
- Alquiler de espacio de laboratorio
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Análisis reológico
- Caracterización molecular: fluorescencia
- Caracterización molecular: FT-IR
- Adelgazamiento iónico
- Elipsometría de capas delgadas sobre silicio
- Other fabrication techniques: Glove box
- Medida del ángulo de contacto
- Otros procesos de wafers: Recocido rápido
- Empaquetado-ensamblaje: Unión de cables en cuña
- Perfilometría
- Fotolitografía: fabricación de máscaras
- Deposición física desde fase vapor: Sputtering DC
- Recocidos de capas delgadas a alta temperatura
- Síntesis por microondas (MW)
- Análisis de datos, diseño de experimentos, formación y asesoría
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: SALA BLANCA
- Instituto: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID
- Localidad: Madrid (Madrid)
- Web del servicio: http://www.icmm.csic.es/
El Servicio General de la Sala Blanca del Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM-CSIC) está concebido como un Servicio Intercentros dentro del Campus de Excelencia CSIC-UAM, que además cuenta con usuarios externos, principalmente de grupos pertenecientes a centros de la Comunidad de Madrid. La instalación de este laboratorio comenzó en 2011, estando en la actualidad en marcha prácticamente todas sus técnicas de micro-nanofabricación. Actualmente la sala blanca es de clase 10000 y está dotada con las siguientes técnicas y facilidades (algunos aportados por distintos grupos de investigación del ICMM). - Caja seca de 4 guantes con control de humedad y oxígeno hasta 1ppm. Dentro de la caja seca hay un sistema de spin-coating integrado. - Evaporadora para metales y grafito. - Sistema de depósito por sputtering con un magnetrón. - Fotolitografía UV con resolución de 0.8 micrómetros. - Spin-coating - Cabina de flujo laminar - Equipo de deposición de chapas atómicas (ALD)
Deposición física desde fase vapor: ALD
Descripción de la prestación
Depósito de láminas delgadas de materiales de distintas composiciones, principalmente óxidos metálicos, desde una fase de vapor.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Deposición de materiales por ALD (atomic layer deposition) | € / hora | 53.48 € | 58.57 € |
Otras prestaciones de servicio
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Ataque iónico reactivo (RIE)
- Metalización (Sputtering)
- Packaging-Assembly: Wire bonding ball
- Fotolitografía: fabricación de máscaras
- Tratamiento de superficies por plasma
- Tratamiento muestra: Metalización (Sputtering)
- Tratamiento de muestras: metalizado por evaporación