- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Fabricación y Tratamiento
- Subagrupación
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- Micro y Nanofabricación
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
|---|---|---|---|
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Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación IMB-CNM - Cerdanyola del Vallès |
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación
- Instituto: INSTITUTO DE MICROELECTRONICA DE BARCELONA
- Localidad: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Web del servicio: http://www.imb-cnm.csic.es/index.php/en/clean-room
La Sala Blanca integrada de Micro y Nano fabricación (SBCNM) es una Gran Instalación (ICTS) dedicada al desarrollo y aplicación de tecnologías innovadoras en el campo de la microelectrónica, junto con otras Micro / Nanotecnologías emergentes. Está integrada administrativamente en el Centro Nacional de Microelectrónica - Instituto de Microelectrónica de Barcelona - (IMB-CNM), un centro de investigación perteneciente al Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC). Desde su creación, la SBCNM es la principal instalación de apoyo a la actividad de I + D del IMB-CNM. Aunque claramente definida en sus recursos, las políticas y la misión, la SBCNM necesita ser entendida en el marco del IMB-CNM. La Sala Blanca da servicio no sólo a los grupos de investigación del IMB-CNM, sino que también es un centro de acceso abierto con una amplia orientación científica y técnica en el campo de los dispositivos, circuitos y sistemas basados en la micro y nanotecnología.
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
Descripción de la prestación
Técnicas de Nanofabricación y Caracterizacion por Hazes de Iones. Focussed Ion Beam. Modelo Zeiss 550L. Modo de uso en autoservicio y/o con soporte técnico (coste de personal no incluido). Ataque y corte de capas| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Alta autoservicio FIB Zeiss 550L | €/hora | 205.19 € | 287.27 € |
| Autoservicio FIB Zeiss 550L | €/hora | 147.59 € | 206.63 € |
| General | €/hora | 191.2 € | 267.68 € |
Otras prestaciones de servicio
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Deposición de capas por spinner
- Ataque iónico reactivo (RIE)
- Ebeam Lithography
- Elipsometría de capas delgadas sobre silicio
- Espectroscopía micro-Raman
- Grabados húmedos, limpiezas y tratamiento de superficies
- Other inspection techniques: Optical profilometry
- Thermal Nanoimprint
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography - backside align
- Photolithography: Standard resist processing - manual
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía de barrido: AFM contacto
- Spectroscopy: UV - Visible spectral reflectometry
- Tratamiento de superficies por plasma
- Fabricación de muestras, componentes microelectrónicos y circuitos integrados en Sala Blanca
- Soldadura de obleas
- Secado por punto crítico (Critical Point Dryer)
- Microscopía Electrónica de Barrido (SEM)
- Laser Photolithography
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Instituto: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Localidad: Tres Cantos (Madrid)
- Web del servicio: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
Descripción de la prestación
Equipo: ionLiNE (RAITH GmbH). Fuente líquida de Ga. Energía del haz: 30 KeVs. Generador de estructuras: Elphy-Plus (2 MHz) con software para alineamiento con estructuras previas y para corrección de proximidad de estructuras. Editor gráfico de estructuras GDSII. Portamuestras: dotado de interferometría LASER que permite empalmar campos de escritura de 100 x 100 cm2 con un error < 40 nm. Area máxima de trabajo: 10 x 10 cm2. Otras características: dotado con un sistema de inyección de gases (GIS) que permite la deposición selectiva de SiOx, Pt, y Mo, con resolución de 50 nm. Dotado de tres portamuestras distintos: a) Estándar: en el que se pueden colocar hasta 6 muestras pequeñas o menos muestras, más grandes (max 10 cm dimensión lateral). b) Especial: para obleas de 3 pulgadas. c) Especial 3D: en este caso el tamaño máximo de muestra para poder tener acceso a todos los movimientos 3D es de 1 cm lateral aproximadamente.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| General | € / h | 275.91 € | 302.18 € |
Otras prestaciones de servicio
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina