- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Muestreo, Preparación, Tratamiento y Conservación de Muestras
- Subagrupación
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- Deposición
Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
|---|---|---|---|
|
Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Instituto: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Localidad: Tres Cantos (Madrid)
- Web del servicio: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
Descripción de la prestación
LabSpin6 (SüssMicrotec) Esta máquina permite realizar recubrimientos de líquidos más o menos viscosos uniformes mediante centrifugado. La muestra se fijo en un soporte en el eje de rotación, mediante succión con la ayuda de una pequeña bomba de vacío. La velocidad de de giro y la aceleración se pueden programar hasta un número máximo de 40 pasos. Máxima velocidad: 8000 rpm Aceleración: 4000rpm/s Tamaño máximo de muestra: oblea de 6".| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Material Spinner 1 | € / muestra | 1.76 € | 1.93 € |
| Material Spinner 6 | € / muestra | 0.03 € | 0.03 € |
| General | €/h | 73.85 € | 80.88 € |
| Material Spinner 5 | € / muestra | 0.27 € | 0.29 € |
| Material Spinner 3 | € / muestra | 0.06 € | 0.07 € |
| Material Spinner 7 | € / muestra | 1.58 € | 1.73 € |
| Material Spinner 4 | € / muestra | 0.13 € | 0.15 € |
| Material Spinner 2 | € / muestra | 1.76 € | 1.93 € |
Otras prestaciones de servicio
- Litografía por haz de electrones
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina