- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Fabricación y Tratamiento
- Subagrupación
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- Litografía
Photolithography: Contact photolithography
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
|---|---|---|---|
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Instituto: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Localidad: Tres Cantos (Madrid)
- Web del servicio: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Photolithography: Contact photolithography
Descripción de la prestación
Equipo: MA6-Karl Suss (UV400). Características: Capacidad de litografía por la cara posterior del sustrato y alineamiento con la cara superior (litografía de doble cara). Muy útil en aplicaciones del tipo MEMS| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Con Alineadora Automática | € / h | 80.79 € | 88.49 € |
Otras prestaciones de servicio
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina