Grabados secos por plasma (RIE)

Unidad de servicio: <a href="/es/investigacion/catalogo-de-servicios-cientifico-tecnico/unidades-de-servicio/servicio-de-micro-y-nanofabricacion-mina">Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
Instituto: <a href="/es/el-csic/organizacion/institutos-centros-y-unidades/instituto-de-micro-y-nanotecnologia">INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
Localidad: Tres Cantos (Madrid)
Web del servicio: http://www.imm-cnm.csic.es

Información relativa a las unidades que ofrecen la prestación seleccionada
Unidad de servicio	Información de la unidad de servicio	Prestación seleccionada	Otras prestaciones de servicio
Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos

Descripción de la prestación

Equipo: PlasmaLab80 Plus. Plasma: ICP (Inductively Coupled Plasma). Gases: SF6, CHF3, Cl2, BCl3, NH3, CO, CH4, H2, O2, N2, Ar. Características: puede atacar cualquier clase de material (conductores, semiconductores y aislantes) como por ejemplo Nb, semiconductores III-V, HfO2, SiO2, SiNx... El equipo Lab 80 Plus forma un plasma para crear iones de las moléculas del gas. Los iones son dirigidos por un campo eléctrico hacia la superficie de la muestra, donde acaban colisionando. El ataque se produce tanto por los átomos que se arrancan como por las reacciones químicas que tienen lugar en las superficie de la muestra. Se consiguen patrones grabados en la superficie de una muestra, si ésta la cubrimos con una máscara con ventanas, cuyo material se ataque más lentamente que la muestra.

Cuadro de opciones y precios
Opciones	Unidad	Sector Público	Otros Clientes
RIE:Gases	€/proceso	11.75 €	12.87 €
General, sin gases	€/h	123.96 €	135.77 €