- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Fabricación y Tratamiento
- Subagrupación
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- Litografía
Litografía por haz de electrones
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
|---|---|---|---|
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ICMAB - Cerdanyola del Vallès |
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Microscopia electronica
- Instituto: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE BARCELONA
- Localidad: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Web del servicio: http://www.icmab.csic.es
El servicio de microscopía electrónica se creó en el año 2008 y consta de un microscopio electrónico de barrido (SEM) QUANTA FEI 200 FEG-ESEM y un microscopio electrónico de transmisión (TEM) JEOL JEM-1210. El FEI Quanta 200 FEG está equipado con un cañón de emisión de campo (FEG) y puede trabajar en modo de alto vacío (HV), de bajo vacío (LV) y ambiental (ESEM). El equipo consta de un analizador de energía dispersiva de rayos X (EDX) y de un sistema de nano-litografía por haz de electrones (e-beam RAITH). El JEOL JEM1210 (120KV) es un microscopio electrónico de transmisión con una resolución de 3.2 Å punto a punto. Está equipado con un portamuestras analítico de doble inclinación (Inclinación X = ± 60o, Inclinación Y = ± 30o) modelo GATAN 646. En 2011 se instaló una cámara digital GATAN, ORIUS 831 SC 600, adecuada para el registro de imágenes y de patrones de difracción.
Litografía por haz de electrones
Descripción de la prestación
El servicio de microscopía electrónica de barrido, está equipado con un microscopio QUANTA FEI 200 FEG-ESEM que ofrece una potente herramienta de imagen para la inspección rutinaria y avanzada de materiales. El equipo está diseñado para ofrecer imágenes con alta resolución (1.2Nm @ 30kV) está dotado con un cañón de emisión de campo, especializado para la caracterización morfológica de nanocristales, materiales nanoestructurados y superficies. Imágenes de contraste proporcional al número atómico también está disponible con alta resolución lateral (2,5 nm @ 30 kV) gracias a un detector de electrones retrodispersados. El instrumento se puede utilizar en el modo de alto vacío, modo de bajo vacío (la presión de la cámara se controla mediante inyección de vapor de agua), y en modo ambiental (ESEM). Esto hace que sea posible el estudio de muestras en presiones de hasta 5 Torr. La resolución es muy buena en todas las condiciones: 1,2 nm y 1,5 nm a 30 kV y en los modos de alto y bajo vacío, respectivamente. La capacidad para variar la presión de la cámara es especialmente adecuada para la observación de materiales no conductores sin necesidad de recubrimiento. El microscopio también cuenta con un detector EDS diseñado para caracterizar elementos ligeros, comenzando por Be, con una energía de resolución de 132 eV. Esta herramienta permite el análisis químico elemental con una alta resolución lateral (punto de análisis y mapeo elemental), como es imprescindible para la caracterización de materiales nanoestructurados y multicomponentes complejos. El servicio incluye la litografía por haz de electrones, que se utiliza en muchos campos de investigación. En el ICMAB como desarrollo de dispositivos orgánicos, la fabricación de plantillas de sustrato diseñados para la ingeniería, defecto en películas delgadas superconductoras epitaxiales, la investigación de los fenómenos de superficie de auto-organización, y la fabricación de dispositivos magnetoelectrónicos. Litografía y nano-litografía pueden ser realizados por un haz de electrones (e-beamRAITH). Es un SEM ambiental, lo que permite la caracterización de materiales no conductores sin que sea necesario un recubrimiento conductor para su análisis.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Litografia electrónica_autoservicio | €/h | 119.17 € | 148.09 € |
| Litografia electrónica_con soporte técnico | €/h | 119.17 € | 148.09 € |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Instituto: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Localidad: Tres Cantos (Madrid)
- Web del servicio: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Litografía por haz de electrones
Descripción de la prestación
Equipo: e-LINE Plus (Raith nanofabrication). Cátodo de emisión de efecto campo con energía del haz de 30 kVe. Equipado con con la tecnologías traxx and periodixx que permiten la exposición de estructuras libres errores de solapamiento, ideales para la fabricación de guías de onda, resonadores, cristales fotónicos, etc. Portamuestras diseñado para alojar desde muestras pequeñas hasta obleas de 4». Portamuestas para fabricación de máscaras ópticas de 4». Resolución : 10 nm| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| Preparación muestra | € / hora | 15.72 € | 17.22 € |
| General | euro / hora | 110.2 € | 120.69 € |
| Litografía electrónica material resinas | euro / muestra | 31.02 € | 33.97 € |
Otras prestaciones de servicio
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina