- Áreas de investigación
-
- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
-
- Fabricación y Tratamiento
- Subagrupación
-
- Litografía
Ebeam Lithography
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
|---|---|---|---|
|
Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación IMB-CNM - Cerdanyola del Vallès |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación
- Instituto: INSTITUTO DE MICROELECTRONICA DE BARCELONA
- Localidad: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Web del servicio: http://www.imb-cnm.csic.es/index.php/en/clean-room
La Sala Blanca integrada de Micro y Nano fabricación (SBCNM) es una Gran Instalación (ICTS) dedicada al desarrollo y aplicación de tecnologías innovadoras en el campo de la microelectrónica, junto con otras Micro / Nanotecnologías emergentes. Está integrada administrativamente en el Centro Nacional de Microelectrónica - Instituto de Microelectrónica de Barcelona - (IMB-CNM), un centro de investigación perteneciente al Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC). Desde su creación, la SBCNM es la principal instalación de apoyo a la actividad de I + D del IMB-CNM. Aunque claramente definida en sus recursos, las políticas y la misión, la SBCNM necesita ser entendida en el marco del IMB-CNM. La Sala Blanca da servicio no sólo a los grupos de investigación del IMB-CNM, sino que también es un centro de acceso abierto con una amplia orientación científica y técnica en el campo de los dispositivos, circuitos y sistemas basados en la micro y nanotecnología.
Ebeam Lithography
Descripción de la prestación
Uso del Raith 150 para nanolitografía (mediante haz de electrones hasta 30kV) o para mapping en modo automático (metrología).| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
|---|---|---|---|
| GENERAL | 139.27 € | 152.53 € | |
| Autoservicio EBL Raith 150 | 98.36 € | 107.73 € | |
| Alta autoservicio EBL Raith 150 | 151.67 € | 166.12 € | |
| Alta autoervicio Wet station for spin coat/develop resists E | 107.73 € | 117.99 € | |
| Autoervicio Wet station for spin coat/develop resists E | 54.42 € | 59.60 € |
Otras prestaciones de servicio
- Deposición de capas por spinner
- Ataque iónico reactivo (RIE)
- Elipsometría de capas delgadas sobre silicio
- Espectroscopía micro-Raman
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados húmedos, limpiezas y tratamiento de superficies
- Other inspection techniques: Optical profilometry
- Perfilometría
- Microscopía de barrido: AFM contacto
- Spectroscopy: UV - Visible spectral reflectometry
- Tratamiento de superficies por plasma
- Microscopía Electrónica de Barrido (SEM)
- Laser Photolithography
- Photolithography: Contact photolithography - backside align
- Photolithography: Standard resist processing - manual
- Plasma CVD: PECVD
- Soldadura de obleas
- Secado por punto crítico (Critical Point Dryer)
- Medida de resistencia cuadro
- Medida de grosor y curvatura de obleas
- Fabricación de muestras, componentes microelectrónicos y circuitos integrados en Sala Blanca