- Áreas de investigación
-
- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
-
- Análisis y Métodos Físicos
- Subgroup
-
- Óptica y Fotónica
Ellipsometry of thin layers on silicon
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
|
ICMAB - Cerdanyola del Vallès |
|||
|
ESPECTROFOMETRÍA DE INFRARROJOS Y ELIPSOMETRÍA ICMM - Madrid |
|||
|
Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación IMB-CNM - Cerdanyola del Vallès |
|||
|
Laboratorio de Caracterización Superficial ICV - Madrid |
Service general data
- Support unit: PLATAFORMA NANOQUIM
- Institute: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE BARCELONA
- Locality: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Service's web: http://www.icmab.csic.es
Cinco laboratorios de Sala Blanca clase 10.000 (ISO7): Lab. de litografía óptica Avanzada, Lab. de Caracterización de materiales funcionales en la nanoescala, Lab. de caracterización físico-química y Nanofabricacion, Lab. de síntesis Química y Laboratorio de alto control de humedad, para la deposisión de soluciones no-acuosas y el crecimiento de nanoestructuras; El laboratorio Nanoquim esta dedicado a la nanoestrucutración de materiales obtenido por procedimientos químicos, lo que contituye la caracterítica más distitiva de la Plataforma Nanoquim. Hay instalados unos 30 equipos científicos diferentes en la instalación, destinados al control de las propiedades físico-químicas de soluciones, equipamiento para la deposición y la nanoestrucutración, crecimiento de Nano-materiales, caracterización de películas delgadas, caracterización en la nanoescala, grabado selectivo físico-químicos para metales, óxidos y polímeros y equipamiento para contactos electrícos y litografía.
Ellipsometry of thin layers on silicon
Benefit description
GES5E Optical Platform allows various measurement mode from Standard Ellipsometry to generalized Ellipsometry going thru photometric measurements (in Transmission and Reflection), Scatterometry, luminescence measurements. All measurements are made automatically as a function of: wavelength, angle of incidence, polarization state and time. Standard spectral range is 230-900nm.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Elipsometría de Capas Delgadas sobre Silicio | € / hora | 77.42 € | 96.03 € |
| Elipsometría de Capas Delgadas sobre Silicio_Soporte Tecnico | euro / hora | 77.41 € | 96.02 € |
Other services
- Alquiler de espacio de laboratorio
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Análisis reológico
- Caracterización molecular: fluorescencia
- Caracterización molecular: FT-IR
- Adelgazamiento iónico
- Other fabrication techniques: Glove box
- Medida del ángulo de contacto
- Otros procesos de wafers: Recocido rápido
- Empaquetado-ensamblaje: Unión de cables en cuña
- Perfilometría
- Fotolitografía: fabricación de máscaras
- Deposición física desde fase vapor: ALD
- Deposición física desde fase vapor: Sputtering DC
- Recocidos de capas delgadas a alta temperatura
- Síntesis por microondas (MW)
- Análisis de datos, diseño de experimentos, formación y asesoría
Service general data
- Support unit: ESPECTROFOMETRÍA DE INFRARROJOS Y ELIPSOMETRÍA
- Institute: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.icmm.csic.es/
El servicio de Espectrofotometría de infrarrojos del ICMM-CSIC proporciona a los investigadores de dicho centro información sobre la respuesta IR de diversos materiales para su identificación química o información textural (láminas delgadas y composites). Bruker IFS 66V-S (10.000-50 cm-1) Con él se pueden realizar medidas en muestras sólidasy pulverulentas, en vacío. El rango espectral abarcado va desde el infrarrojo lejano (50 cm-1) hasta el infrarrojo cercano (10.000 cm-1). Elipsómetro SOPRA GES 5E, provisto con una lámpara de Xe, con goniómetro, que permite ajustar los ángulos de incidencia sobre la muestra, abarcando un rango espectral que va desde los 190 nm a los 2000 nm. Este elipsómetro es capaz de determinar el cambio del estado de polarización de un haz de luz polarizada producido por la reflexión sobre una superficie pulida.
Ellipsometry of thin layers on silicon
Benefit description
Spectroscopic ellipsometry is an optical characterization technique which provides unequalled sensitivity for thin film measurements and a non destructive, contactless way to measure them. It is primarily used to characterize film thickness as well as optical characterization.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Eliipsometria Espectroscopica de Angulo Variable | euro / unidad | 16.09 € | 17.62 € |
Service general data
- Support unit: Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación
- Institute: INSTITUTO DE MICROELECTRONICA DE BARCELONA
- Locality: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Service's web: http://www.imb-cnm.csic.es/index.php/en/clean-room
La Sala Blanca integrada de Micro y Nano fabricación (SBCNM) es una Gran Instalación (ICTS) dedicada al desarrollo y aplicación de tecnologías innovadoras en el campo de la microelectrónica, junto con otras Micro / Nanotecnologías emergentes. Está integrada administrativamente en el Centro Nacional de Microelectrónica - Instituto de Microelectrónica de Barcelona - (IMB-CNM), un centro de investigación perteneciente al Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC). Desde su creación, la SBCNM es la principal instalación de apoyo a la actividad de I + D del IMB-CNM. Aunque claramente definida en sus recursos, las políticas y la misión, la SBCNM necesita ser entendida en el marco del IMB-CNM. La Sala Blanca da servicio no sólo a los grupos de investigación del IMB-CNM, sino que también es un centro de acceso abierto con una amplia orientación científica y técnica en el campo de los dispositivos, circuitos y sistemas basados en la micro y nanotecnología.
Ellipsometry of thin layers on silicon
Benefit description
Ellipsometry for the determination of thickness and optical parameters of thin layers on silicon. Model Horiba Jobin Ivon/AutoSE| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Alta autoservicio Ellipsometer Horiba Jobin Ivon/AutoSE | € / hora | 80.97 € | 113.36 € |
| Autoservicio Ellipsometer Horiba Jobin Ivon/AutoSE | € / hora | 23.38 € | 32.73 € |
Other services
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Deposición de capas por spinner
- Ataque iónico reactivo (RIE)
- Ebeam Lithography
- Espectroscopía micro-Raman
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados húmedos, limpiezas y tratamiento de superficies
- Other inspection techniques: Optical profilometry
- Thermal Nanoimprint
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography - backside align
- Photolithography: Standard resist processing - manual
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía de barrido: AFM contacto
- Spectroscopy: UV - Visible spectral reflectometry
- Tratamiento de superficies por plasma
- Fabricación de muestras, componentes microelectrónicos y circuitos integrados en Sala Blanca
- Soldadura de obleas
- Secado por punto crítico (Critical Point Dryer)
- Microscopía Electrónica de Barrido (SEM)
- Laser Photolithography
Service general data
- Support unit: Laboratorio de Caracterización Superficial
- Institute: INSTITUTO DE CERAMICA Y VIDRIO
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.icv.csic.es/
El perfilómetro permite medir espesores mediante la variación de altura de un escalón producido por rayado sobre la muestra recubierta. El sistema consta de una punta de diamante acoplada a un transductor, que se va desplazando sobre la superficie hasta encontrar el surco o raya. El equipo mide la variación de altura. El rugosímetro permite medir el acabado superficial de un material. Los límites del equipo viene marcados por la longitud de recorrido (Lc) que varía entre 0,25 mm a 25,0 mm, y el alcance del captador, que varía entre 10 y 500 μm La técnica de ángulo de contacto mide el ángulo (α) que forma la superficie de una gota en contacto con un sustrato. . La determinación se realiza tomando una fotografía de la forma de la gota sobre la superficie del sustrato y determinando su ángulo. La elipsometría espectroscópica es una técnica de caracterización muy sensible. Permite conocer el índice de refracción y el espesor de los materiales depositados
Ellipsometry of thin layers on silicon
Benefit description
Spectroscopic ellipsometry is an optical analysis technique that studies the change in the state of the polarization of light by affecting the study material. It is especially useful for determining thin film thicknesses and optical constants of materials such as refractive index and extinction coefficient| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Elipsometría. General | € / muestra | 42.88 € | 64.81 € |