- Áreas de investigación
-
- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
-
- Fabricación y Tratamiento
- Subgroup
-
- Litografía
Photolithography: Mask fabrication by optical means
Service general data
- Support unit: PLATAFORMA NANOQUIM
- Institute: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE BARCELONA
- Locality: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Service's web: http://www.icmab.csic.es
Cinco laboratorios de Sala Blanca clase 10.000 (ISO7): Lab. de litografía óptica Avanzada, Lab. de Caracterización de materiales funcionales en la nanoescala, Lab. de caracterización físico-química y Nanofabricacion, Lab. de síntesis Química y Laboratorio de alto control de humedad, para la deposisión de soluciones no-acuosas y el crecimiento de nanoestructuras; El laboratorio Nanoquim esta dedicado a la nanoestrucutración de materiales obtenido por procedimientos químicos, lo que contituye la caracterítica más distitiva de la Plataforma Nanoquim. Hay instalados unos 30 equipos científicos diferentes en la instalación, destinados al control de las propiedades físico-químicas de soluciones, equipamiento para la deposición y la nanoestrucutración, crecimiento de Nano-materiales, caracterización de películas delgadas, caracterización en la nanoescala, grabado selectivo físico-químicos para metales, óxidos y polímeros y equipamiento para contactos electrícos y litografía.
Photolithography: Mask fabrication by optical means
Benefit description
MicroWriter ML¿ is a direct-write laser photolithography machine. It is designed for lab-based research and development and small volume production. Unlike conventional photolithography performed on a mask-aligner in which a physical mask is used to define the exposed patterns, direct-write lithography uses a software mask. This software mask is designed using standard graphics software and so can be modified rapidly and at no cost. Direct-write lithography is therefore well suited to the R&D environment in which maximum flexibility is essential.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Fotolitografía Fabricación de Máscaras | 4.97 € | 5.45 € | |
| Fotolitografía Fabricación de Mascaras_Soporte Tecnico | 111.10 € | 121.68 € |
Other services
- Análisis reológico
- Caracterización molecular: fluorescencia
- Caracterización molecular: FT-IR
- Adelgazamiento iónico
- Elipsometría de capas delgadas sobre silicio
- Other fabrication techniques: Glove box
- Medida del ángulo de contacto
- Otros procesos de wafers: Recocido rápido
- Empaquetado-ensamblaje: Unión de cables en cuña
- Perfilometría
- Deposición física desde fase vapor: ALD
- Deposición física desde fase vapor: Sputtering DC
- Recocidos de capas delgadas a alta temperatura
- Síntesis por microondas (MW)
- Análisis de datos, diseño de experimentos, formación y asesoría
- Acceso a Sala Limpia
- Uso de laboratorio
Service general data
- Support unit: SALA BLANCA
- Institute: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.icmm.csic.es/
El Servicio General de la Sala Blanca del Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM-CSIC) está concebido como un Servicio Intercentros dentro del Campus de Excelencia CSIC-UAM, que además cuenta con usuarios externos, principalmente de grupos pertenecientes a centros de la Comunidad de Madrid. La instalación de este laboratorio comenzó en 2011, estando en la actualidad en marcha prácticamente todas sus técnicas de micro-nanofabricación. Actualmente la sala blanca es de clase 10000 y está dotada con las siguientes técnicas y facilidades (algunos aportados por distintos grupos de investigación del ICMM). - Caja seca de 4 guantes con control de humedad y oxígeno hasta 1ppm. Dentro de la caja seca hay un sistema de spin-coating integrado. - Evaporadora para metales y grafito. - Sistema de depósito por sputtering con un magnetrón. - Fotolitografía UV con resolución de 0.8 micrómetros. - Spin-coating - Cabina de flujo laminar - Equipo de deposición de chapas atómicas (ALD)
Photolithography: Mask fabrication by optical means
Benefit description
| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Fotolitografía Fabricación de Mascaras_Soporte Tecnico | 66.24 € | 72.54 € |