- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Análisis y Métodos Físicos
- Subgroup
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- Caracterización Estructural
XRD (X-Ray Diffraction): Determination of lattice parameter of crystalline cell
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
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SERVICIO DE DIFRACCIÓN DE RAYOS X (SDRX) CEQMA - Zaragoza |
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
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CENIM - Madrid |
Service general data
- Support unit: SERVICIO DE DIFRACCIÓN DE RAYOS X (SDRX)
- Institute: CENTRO DE QUIMICA Y MATERIALES DE ARAGON
- Locality: Zaragoza (Zaragoza)
El Servicio de Difracción de Rayos X es un servicio de apoyo a tecnólogos e investigadores que, trabajando en cualquier área científica, requieran un conocimiento de la estructura cristalina o molecular de una determinada sustancia. El servicio dispone de infraestructura para el análisis estructural a partir de muestras monocristalinas de tamaño superior a 10-20 micras. Las medidas pueden ser realizadas a bajas temperaturas (rango 300-27 K) para favorecer la estabilidad química o cristalina de la muestra, o reducir problemas estructurales asociados a situaciones de desorden. La disponibilidad de fuentes de radiacción de distintas longitudes de onda (Cobre, Molibdeno o Plata) asegura la optimización de las medidas para cualquier tipo de sustancia orgánica, inorgánica o mixta. El Servicio ofrece, tanto la realización de la medida por personal experto en condiciones óptimas, como el tratamiento posterior de los datos hasta la descripción pormenorizada de la estructura molecular.
XRD (X-Ray Diffraction): Determination of lattice parameter of crystalline cell
Benefit description
Diffraction measurement limited to the determination of unit cell parameters may be useful as a fast and definitive method to identify a substance. Furthermore, it may be applied to orientate a single crystal in order to measure a physical property along a predetermined crystallographic direction.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Monocristal_check | € / 12h | 164.7 € | 180.39 € |
Service general data
- Support unit: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Institute: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Locality: Tres Cantos (Madrid)
- Service's web: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
XRD (X-Ray Diffraction): Determination of lattice parameter of crystalline cell
Benefit description
D8 Discover -Bruker Characterization of materials by X-ray diffraction Technical Features: - Powder and high resolution configurations for structural measurements of high crystalline quality - Configuration of reflectometry for determination of thicknesses and interfacial roughness - Simulation programs to support these configurations| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| General | € / muestra | 328.4 € | 359.68 € |
Other services
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
Service general data
- Support unit: LABORATORIO DE RAYOS X
- Institute: CENTRO NACIONAL DE INVESTIGACIONES METALURGICAS
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.cenim.csic.es/
El laboratorio de Rayos X está dotado de los siguientes equipos: - Espectrómetro de fluorescencia de rayos X con un sistema analizador por dispersión de longitud de onda de rayos X (WDX) Bruker S8 tiger - Equipo de microfluorescencia de Rayos X Fischerscope XUV con detector de dispersión de energías de rayos X (EDX). - Difractómetro de rayos X Siemens D5000, equipado con un anillo central de Euler abierto - Difractómetro de rayos X de alta precisión Bruker AXS D8 advance, con anillo central de Euler abierto, equipado con un sistema de detector lineal y un puntero láser controlado por vídeo cámara para asegurar la correcta colocación de la muestra y alineado del haz. En el laboratorio se realizan, entre otros, los siguientes ensayos a) Análisis por fluorescencia y microfluorescencia de rayos X (FRD y µFRD) b) Caracterización estructural por difracción de rayos X (XRD). Para una descripción más detallada de los ensayos, vease el apartado "Prestaciones" en el Menu principal.
XRD (X-Ray Diffraction): Determination of lattice parameter of crystalline cell
Benefit description
Determination of the values of the lattice parameters is possible knowing the crystal structure and indexing the different reflections using the ICDD PDF database. The problem that arises when using this method is that the accuracy ofthe determination is dependent on the diffraction angle, so that a small error in the Bragg angle determination for low angles results in a high error of the calculated lattice parameters. Nowadays the development of methods of adjustment as Pawley, Le Bail or Rietveld allows accurately determination of the lattice parameters using the whole diffraction pattern but it is necessary to know the space group of the material.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| General | € / muestra | 103.2 € | 113.03 € |
Other services
- Análisis elementos: XRF Mayoritarios
- Caracterización estructural: XRD (Difracción de Rayos X) agregados orientados
- Caracterización estructural: XRD (Difracción de Rayos X) análisis de cristalinidad
- Caracterización estructural: XRD (Difracción de Rayos X) en polvo cualitativo
- Caracterización estructural: XRD (Difracción de Rayos X) en polvo cuantitativo
- XRD (Difracción de Rayos X) Láminas delgadas
- Determinación de tensiones residuales
- Análisis por microfluorescencia de rayos X