- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Muestreo, Preparación, Tratamiento y Conservación de Muestras
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- Fabricación y Tratamiento
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- Otros
- Micro y Nanofabricación
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Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
|
Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Service general data
- Support unit: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Institute: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Locality: Tres Cantos (Madrid)
- Service's web: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
Benefit description
Proceso químicos en superficies de muestras del tipo: Si; GaAs, InP y otros compuestos III-V, así como óxidos y metales. -Limpieza basada en disolventes orgánicos. -Ataque de capas semiconductores de Si y III-V, óxidos y metales: -Grabados de motivos (con máscara). - Ataques selectivos (sin mascara).| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| General (sin productos químicos específicos) | € / h | 87.27 € | 95.58 € |
Other services
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina