- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Muestreo, Preparación, Tratamiento y Conservación de Muestras
- Fabricación y Tratamiento
- Subgroup
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- Deposición
- Micro y Nanofabricación
Physical Vapor Deposition: Electron gun evaporation
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
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Caracterización y Crecimiento de Capas Delgadas ICMM - Madrid |
Service general data
- Support unit: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Institute: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Locality: Tres Cantos (Madrid)
- Service's web: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Physical Vapor Deposition: Electron gun evaporation
Benefit description
This device ( home made) targets a tiny crucible containing a high purity material such as gold with a focused electron beam. The beam can heat the material as high at 3500C, causing the material to sublimate. The rapidly cooling vapor condenses on the sample substrate and, like the sputtering system, thin layers can be created with a high degree of control over thickness. Metals: Au, Au/Ge, Al. Cr, Pt, Ti and Ni among others.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| General | euro / hora | 84.99 € | 93.08 € |
Other services
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina
Service general data
- Support unit: Caracterización y Crecimiento de Capas Delgadas
- Institute: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.icmm.csic.es/
El Laboratorio de Caracterización y Crecimiento de Capas Delgadas dispone de los siguientes equipos y servicios: • Perfilómetria: de contacto, marca Veeco, mod. Dektak 150. y optica, Profile3D ScienTec • Espectrómetro Raman, EZ-Raman-N de Enwave Optronics, con microscopio LEICA DM300 y láser Nd:YAG de 532 nm. • Emisómetro portátil marca Devices & Service Company (modelo AE1) • Analizador GDOES, mod. RF-GD-Profiler, marca Horiba Jobin Yvon, con ánodo de 4mm. • Espectrofotómetro UV-Visible-IR cercano, Shimadzu mod. Solidspec-3700 con esfera integradora, 190 nm-3300nm. • Nanoindentador, mod. NanoTest P1, marca MicroMaterials, con péndulo de 500mN y punta piramidal Berkovich. • Sistemas de depósito capas delgadas:(i) Sputtering magnetrón para crecimiento de metales, óxidos y nitruros;(ii) Evaporación térmica mediante dos cañones de electrones y asistencia con haces de iones. •. Tratamientos térmicos en atmósfera controladada.
Physical Vapor Deposition: Electron gun evaporation
Benefit description
Nitrogen (or noble gases) Ion beam-assisted thermal evaporation (with two electron guns).| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Depósito de película evaporación | hora | 184.02 € | 227.83 € |