- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Análisis y Métodos Físicos
- Subgroup
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- Óptica y Fotónica
Standard Laser Processing
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
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PROCESADO DE MATERIALES POR LASER IO - Madrid |
Service general data
- Support unit: PROCESADO DE MATERIALES POR LASER
- Institute: INSTITUTO DE OPTICA DAZA DE VALDES
- Locality: Madrid (Madrid)
- Service's web: http://www.io.csic.es
El servicio hace uso de diferentes tipos de láseres continuos y pulsados (hasta la escala de fs), sobre un amplio intervalo de longitudes de onda (IR-UV) para el procesado de materiales. Dentro del servicio se incluyen diferentes modalidades de procesado superficial desde el recocido por láser, a la ablación superficial para aplicaciones de micro-mecanizado o el procesado de láminas delgadas. En el caso de las fuentes láser de pulsos ultracortos, también es posible realizar procesos de micro-estructuración bajo superficie de materiales trasparentes mediante absorción no-lineal. El servicio cuenta con el equipamiento necesario para el control del haz y su enfoque en la zona de trabajo mediante sistemas de micro-posicionamiento o deflectores galvanométricos. Asimismo, se dispone del equipamiento necesario para la producción de muestras en lámina delgada por depósito con láser de excímero pulsado (PLD).
Standard Laser Processing
Benefit description
Processing with ns pulsed lasers The service has available 2 excimer lasers with a pulse duration of 20 ns operating at either 193 or 248 nm with pulse energies and repetition rates in the 200-500 mJ/pulse and 1-20 Hz range respectively. Both laser systems have beam homogenization and components for control and focusing on static samples or moving samples. It is possible to process areas of up to 3 cm x 5 cm by superimposing laser pulses. A high-energy Nd-YAG laser (1064 nm, 1500 mJ) is also available, with frequency doubling and tripling options (532 nm, 800 mJ / 355 nm, 450 mJ) at 10 Hz repetition rate for the realization of static irradiation or controlled movement laser irradiation. These systems allow inducing surface structural transformations, cleaning, micro-perforation, elimination of superficial layers, as well as the diffusion of impurities or dopants in semiconductors or dielectrics.| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| GENERAL | 99.07 € | 108.51 € |