- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Análisis y Métodos Físicos
- Subagrupación
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- Óptica y Fotónica
Procesado y análisis por láser
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
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PROCESADO DE MATERIALES POR LASER IO - Madrid |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: PROCESADO DE MATERIALES POR LASER
- Instituto: INSTITUTO DE OPTICA DAZA DE VALDES
- Localidad: Madrid (Madrid)
- Web del servicio: http://www.io.csic.es
El servicio hace uso de diferentes tipos de láseres continuos y pulsados (hasta la escala de fs), sobre un amplio intervalo de longitudes de onda (IR-UV) para el procesado de materiales. Dentro del servicio se incluyen diferentes modalidades de procesado superficial desde el recocido por láser, a la ablación superficial para aplicaciones de micro-mecanizado o el procesado de láminas delgadas. En el caso de las fuentes láser de pulsos ultracortos, también es posible realizar procesos de micro-estructuración bajo superficie de materiales trasparentes mediante absorción no-lineal. El servicio cuenta con el equipamiento necesario para el control del haz y su enfoque en la zona de trabajo mediante sistemas de micro-posicionamiento o deflectores galvanométricos. Asimismo, se dispone del equipamiento necesario para la producción de muestras en lámina delgada por depósito con láser de excímero pulsado (PLD).
Procesado y análisis por láser
Descripción de la prestación
Procesado con láseres pulsados de ns: Se dispone de 2 láseres de excímero con duración de pulso de 20 ns que operan a 193 o 248 nm con energías de pulso y frecuencias de repetición en los intervalos 200-500 mJ/pulso y 1-20 Hz respectivamente. Ambos láseres cuentan de sistemas de homogeneización del haz de salida y con componentes para su control y focalización sobre muestras estáticas o en movimiento controlado. Es posible procesar áreas de hasta 3 cm x 5 cm mediante la superposición de pulsos láser. Se dispone asimismo de un láser de Nd-YAG de alta energía (1064 nm, 1500 mJ), con opciónes de doblado y triplicado de frecuencia (532 nm, 800 mJ / 355 nm, 450 mJ) a 10 Hz de frecuencia de repetición para la realización de irradiaciones estáticas o en movimiento controlado. Estos sistemas permiten inducir transformaciones estructurales superficiales, limpieza, micro-perforación, eliminación de capas superficiales, así como la difusión superficial de impurezas o dopantes en semiconductores o dieléctricos.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
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| GENERAL | € / hora | 99.07 € | 108.51 € |