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- Ciencia y Tecnología de Materiales
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- Análisis y Métodos Físicos
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- Caracterización Estructural
Difracción de electrones reflejados de alta energía (RHEED)
| Unidad de servicio | Información de la unidad de servicio | Prestación seleccionada | Otras prestaciones de servicio |
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ICMAB - Cerdanyola del Vallès |
Datos Generales del Servicio
- Unidad de servicio: LABORATORIO DE CAPAS FINAS
- Instituto: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE BARCELONA
- Localidad: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Web del servicio: http://www.icmab.csic.es
El laboratorio de capas finas permite fabricar capas finas de óxidos complejos mediante depósito con láser pulsado (PLD), y de metales y aleaciones mediante pulverización catódica (sputtering) usando cátodos con magnetrón. Dispone de varias cámaras de procesado integradas en una estructura tipo cluster, con una cámara central de distribución a la que están conectadas dos unidades de PLD (una de ellas equipada con reflection high energy electronn diffraction (RHEED) permitiendo análisis en tiempo real, incluso en condiciones de alta presión), una cámara de metalizaciones equipada con tres magnetrones, y una cámara de almacenamiento para unas decenas de muestras (pronto podrá conectarse unavacuum suitcase). El acceso a todas las cámaras de procesado se hace mediante precámaras, siendo la presión base del orden de 10-8 mbar. Las capas pueden depositarse con T > 800 ºC, en atomósfera de O2 en caso de PLD y Ar en caso de sputtering.
Difracción de electrones reflejados de alta energía (RHEED)
Descripción de la prestación
El laboratorio dispone de dos equipos de Pulsed laser deposition (PLD) integrados en un cluster con otras cámaras, incluyendo un sistema de sputtering. Uno de los dos sistemas de PLD está equipado con un sistema de caracterización reflection high energy electron diffraction (RHEED), permitiendo análisis en tiempo real incluso en condiciones de alta presión de oxígenos. El acceso a todas las cámaras de procesado se hace mediante precámaras, siendo la presión base del orden de 10-8 mbar. Las capas pueden depositarse con T > 800 ºC, en atomósfera de O2. Cada cámara dispone de un sistema portablancos para cinco blancos, con sistema de escaneo xy. Tanto los calefactores de los substratos, el portablancos y la ventana de introducción del haz láser son extraíbles sin presurizar la cámara. El proceso de ablación se realiza con un láser de excímero KrF, con emisión a 248 nm.| Opciones | Unidad | Sector Público | Otros Clientes |
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| SPLD_PLD2_tarifa2025 | € / hora | 55.17 € | 145.19 € |