LABORATORIO DE CAPAS FINAS

El laboratorio de capas finas permite fabricar capas finas de óxidos complejos mediante depósito con láser pulsado (PLD), y de metales y aleaciones mediante pulverización catódica (sputtering) usando cátodos con magnetrón. Se dispone de dos unidades de PLD (una de ellas equipada con reflection high energy electron diffraction (RHEED) permitiendo análisis en tiempo real, incluso en condiciones de alta presión) y una cámara de metalizaciones equipada con tres magnetrones. El acceso a todas las cámaras de procesado se hace mediante precámaras, siendo la presión base del orden de 10-8 mbar. Las capas pueden depositarse con T > 800 ºC, en atmósfera de O2 en caso de PLD y Ar en caso de sputtering.