Sputtering

Descripción de la prestación

Incluye deposición tanto por evaporación térmica como por sputtering por haz de iones, pudiéndose combinar ambos métodos en una misma multicapa. El sistema de evaporación contiene fuentes de evaporación térmica de tipo filamento y nave. La deposición por sputtering se realiza mediante haz de iones consistente en un cañón de cátodo hueco de 3 cm de diámetro y un sistema portablancos refrigerado. Algunos de los sistemas se encuentran en salas limpias. Se ofertan 2 variantes que incluyen sputtering: -Deposición en sala blanca ISO-6. El equipo dispone de una cámara cilíndrica de 75 cm de diámetro y 100 cm de altura situada en una sala blanca ISO-6. Incluye deposición tanto por evaporación como por sputtering, pudiéndose combinar ambos métodos en una misma multicapa. El sistema portablancos para sputtering aloja blancos de 130 mm de diámetro. El sistema permite la deposición de láminas por evaporación de hasta 3 materiales distintos y por sputtering de hasta 4 materiales distintos. El equipo dispone de un sistema calefactor de muestras hasta aproximadamente 400ºC. El portamuestras puede alojar sustratos de hasta 150 mm de diámetro y puede girar para mejorar la uniformidad del recubrimiento. El sistema dispone de bombeo mediante bomba criogénica. -Deposición en cámaras conectadas a reflectómetro ultravioleta lejano-extremo. El equipo dispone de sistemas de deposición por evaporación y por sputtering conectados a un reflectómetro para ultravioleta lejano y extremo para medir la reflectancia y transmitancia de los recubrimientos in situ, esto es, antes de exponerlos a la atmósfera. Los sistemas de evaporación y de sputtering se encuentran en sendas cámaras de ultra-alto vacío, ambas conectadas en vacío entre sí y con el reflectómetro. Todos estos sistemas están situados en una sala blanca ISO-8. El sistema permite también la deposición de láminas por cañón de electrones. El sistema portablancos para sputtering aloja blancos de 100 mm de diámetro. El sistema permite la deposición de láminas por evaporación de hasta 3 materiales distintos y por sputtering de hasta 4 materiales distintos. El equipo de evaporación dispone de un sistema calefactor de muestras hasta aproximadamente 300ºC. El portamuestras puede alojar sustratos de hasta 50.8 mmx50.8 mm y 3 mm de espesor. La cámara de evaporación dispone de un sistema de bombeo mediante bomba iónica y bomba de sublimación de titanio. La cámara de sputtering dispone de un sistema de bombeo mediante bomba criogénica.