FUENTE TÉRMICA MULTIFILAR PARA UNA DEPOSICIÓN EFICIENTE DE LÁMINAS DELGADAS MEDIANTE EVAPORACIÓN EN VACÍO

El CSIC ha desarrollado una fuente térmica de tipo resistivo, adecuada para depositar láminas delgadas mediante evaporación en vacío en procesos PVD (Deposición Física en fase Vapor). Las nuevas fuentes permiten optimizar los procesos PVD, ya que tienen una capacidad de carga del material evaporante más del doble de la carga que admiten las fuentes tradicionales de tipo helicoidal de longitud y potencia eléctrica similares. La geometría sencilla de esta nueva fuente simplifica su fabricación y reduce sus costes de producción
Se buscan empresas fabricantes de equipos de laboratorio interesadas en la licencia de la patente para su explotación comercial.