- Áreas de investigación
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- Ciencia y Tecnologías Físicas, Matemáticas, Robótica y Computación
- Grupo
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- Fabricación y Tratamiento
- Subgroup
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- Micro y Nanofabricación
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
| Support unit | Support unit Information | Selected service | Other services |
|---|---|---|---|
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Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación IMB-CNM - Cerdanyola del Vallès |
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Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa) IMN-CNM - Tres Cantos |
Service general data
- Support unit: Sala Blanca Integrada de Micro y Nanofabricación
- Institute: INSTITUTO DE MICROELECTRONICA DE BARCELONA
- Locality: Cerdanyola del Vallès (Barcelona)
- Service's web: http://www.imb-cnm.csic.es/index.php/en/clean-room
La Sala Blanca integrada de Micro y Nano fabricación (SBCNM) es una Gran Instalación (ICTS) dedicada al desarrollo y aplicación de tecnologías innovadoras en el campo de la microelectrónica, junto con otras Micro / Nanotecnologías emergentes. Está integrada administrativamente en el Centro Nacional de Microelectrónica - Instituto de Microelectrónica de Barcelona - (IMB-CNM), un centro de investigación perteneciente al Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC). Desde su creación, la SBCNM es la principal instalación de apoyo a la actividad de I + D del IMB-CNM. Aunque claramente definida en sus recursos, las políticas y la misión, la SBCNM necesita ser entendida en el marco del IMB-CNM. La Sala Blanca da servicio no sólo a los grupos de investigación del IMB-CNM, sino que también es un centro de acceso abierto con una amplia orientación científica y técnica en el campo de los dispositivos, circuitos y sistemas basados en la micro y nanotecnología.
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
Benefit description
Nanofabrication and Characterisation techniques based on Focussed Ion Beam. Model Zeiss 550L. Use in self-service mode or with the support of a technician. (Cost of personnel not included). Cut and etching layers| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| Alta autoservicio FIB Zeiss 550L | €/hora | 205.19 € | 287.27 € |
| Autoservicio FIB Zeiss 550L | €/hora | 147.59 € | 206.63 € |
| General | €/hora | 191.2 € | 267.68 € |
Other services
- Alquiler de espacio en laboratorio de ambiente controlado (Sala Blanca)
- Deposición de capas por spinner
- Ataque iónico reactivo (RIE)
- Ebeam Lithography
- Elipsometría de capas delgadas sobre silicio
- Espectroscopía micro-Raman
- Grabados húmedos, limpiezas y tratamiento de superficies
- Other inspection techniques: Optical profilometry
- Thermal Nanoimprint
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography - backside align
- Photolithography: Standard resist processing - manual
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía de barrido: AFM contacto
- Spectroscopy: UV - Visible spectral reflectometry
- Tratamiento de superficies por plasma
- Fabricación de muestras, componentes microelectrónicos y circuitos integrados en Sala Blanca
- Soldadura de obleas
- Secado por punto crítico (Critical Point Dryer)
- Microscopía Electrónica de Barrido (SEM)
- Laser Photolithography
Service general data
- Support unit: Servicio de Micro y Nanofabricación (MiNa)
- Institute: INSTITUTO DE MICRO Y NANOTECNOLOGIA
- Locality: Tres Cantos (Madrid)
- Service's web: http://www.imm-cnm.csic.es
El servicio de micro y nanofabricación (MiNa) del Instituto de Microelectrónica de Madrid (IMM) une el Laboratorio de Litografía de Alta Resolución (LAB-LAR) con el resto del equipamiento de la Sala de Fabricación del IMM. El LAB-LAR pertenece a la Red de Laboratorios e Infraestructuras de Investigación de la Comunidad de Madrid disponiendo de la certificación de calidad ISO 9001. MiNa oferta un servicio flexible adaptando la tecnología al usuario, abarcando desde procesos básicos de fabricación que constan de una sola etapa, hasta procesos de fabricación multi-etapa, ofreciendo la posibilidad de fabricar estructuras complejas sin las restricciones impuestas por una Sala Blanca convencional. Nuestra amplia experiencia, pionera en el desarrollo de la nanotecnología en España, permite ofrecer procesos tecnológicos más allá de los estándares. Destacamos la litografía de alta resolución por haz de electrones y la litografía de ultra alta resolución por haz de iones en grandes áreas.
Focused Ion Beam Characterization and Nanofabrication
Benefit description
Equipment: ionLiNE (RAITH GmbH). Liquid source of Ga. Beam energy: 30 KeVs. Pattern Generator: Elphy-Plus (2 MHz) with software for alignment. Sage: Interferometer controlled stage (fabrication area of 100 cm2 and automated mark recognition & alignment for overlay patterning) with b) resolution of 15 nm. Other characteristics: Gas Injection System (GIS) to selective deposition of SiOx, Pt, y Mo, with typical resolution of 50 nm. Three different stages for different sizes or requirements: a) Standar: for 6 small samples or more depending on size (max lateral dimension: 10 cm). b) Special: for 3" samples. b) Special 3D (to fabricate 3D structures): max lateral dimension: 1cm).| Options | Unit | Public Sector | Other customers |
|---|---|---|---|
| General | € / h | 275.91 € | 302.18 € |
Other services
- Deposición de capas poliméricas y nanopartículas por spinner
- Litografía por haz de electrones
- Grabados secos por plasma (RIE)
- Limpiezas de muestras y grabados húmedos de capas delgadas
- Other wafer processes: Wafer scribe
- Perfilometría
- Photolithography: Contact photolithography
- Deposición física desde fase vapor: Evaporación por haz de electrones
- Plasma CVD: PECVD
- Microscopía Electrónica de barrido de alta resolución (SEM)
- Microscopía de barrido: Microscopía de Fuerza Atómica (AFM)
- XRD (Difracción de Rayos X) : Medida de los parámetros de la celda cristalina